工作职责:负责Etch刻蚀设备Setup与工艺Recipe调试;负责各类先进封装与MEMS器件Etch刻蚀工艺可行性分析,制程优化,以及器件制程制作;负责Etch刻蚀工艺不良预防措施制订,工艺缺陷及失效分析,不良改善及良率提升;负责Etch刻蚀新材料、新工艺评估、选型与导入;任职资格:教育程度:硕士工作经历:5年以上MEMS领域Etch刻蚀工艺开发经验,有DRIE设备使用经验;所需专业:自动化、测控、机械、电子、半导体、微电子、材料、物理、化学等理工类相关专业,硕士及以上毕业;其他要求:具备DRIE设备Setup能力;熟悉半导体DRIE设备,有博世工艺调试和诊断经验;熟悉DRIE在MEMS器件制程上的应用和工艺需求spec;熟悉半导体行业Etch刻蚀材料,具备资源整合能力,可以根据需求快速找到相关资源并应用;