工作职责:1、开发和优化砷化镓射频器件的刻蚀工艺,包括清洗、蚀刻和金属剥离等;2、设计实验方案,评估新的刻蚀技术和化学品,特别针对射频器件的特殊要求;3、优化槽式和单片式设备的工艺参数,提高工艺效率和均匀性; 4、分析和解决与湿法工艺相关的良率问题;进行缺陷分析,找出根本原因并制定改进措施;5、为工艺整合工程师提供干法或湿法工艺相关的专业知识和技术支持;6、参与工艺整合讨论,提供刻蚀工艺相关的专业意见;协助解决与刻蚀工艺相关的跨模块工艺问题; 7、编写和维护刻蚀工艺文档,包括工艺流程、操作规程和质量控制标准;8、撰写技术报告和改进方案,参与专利撰写和技术创新活动; 9、与设备工程师密切合作,提供工艺需求和反馈,协助设备工程师进行工艺相关的设备调试和优化。任职资格:1、本科及以上学历,化学、材料科学、化学工程或相关专业背景; 2、3-5年半导体制造业湿法工艺相关工作经验,其中至少2年砷化镓射频器件工艺经验,具有槽式和单片式湿法或干法设备的使用经验;3、了解砷化镓射频器件制造工艺流程,特别是与刻蚀工艺相关的步骤,熟悉常见的材料分析和表征技术;4、具备基本的统计分析和实验设计(DOE)知识;5、具有良好的团队协作和跨部门沟通能力。