职位描述：
1、参与公司黄光先进制程设备或湿法设备的整机开发，提出相应工艺指标，指导设计人员根据工艺需求进行结构优化。
2、先进制程涂覆工艺和显影工艺开发验证与标准配方的建立。
3、标准RCA清洗工艺的验证与数据收集。
4、单片式高温硫酸、高温磷酸清洗工艺的开发。
5、清洗机的Nano Spray、兆声波清洗工艺的优化与标准Recipe的制定。
6、研发工艺组团队的建设。
任职要求：
1、本科及以上学历，电子、物理、半导体、化学等相关专业。
2、5年及以上国内外主流8&12寸存储器、Logic、Power IC等晶圆厂光刻或湿法工艺相关工作经验
3、熟悉半导体工艺制程及先进设备工艺应用经验。清晰了解国内外相关黄光&湿法设备、材料以及配套资源。
4、具有较好的中英文阅读能力及较强的专业报告编写能力。
5、工作主动积极、认真仔细，具有较强的学习能力。