岗位职责：
负责光刻工艺开发，包括工艺流程及相关设备.曝光.显影材料研究，包括：
1.负责电子束光刻工艺（匀胶.光刻.显影）调试和改进。
2.负责stepper和track工艺调试和改进。
3.熟练使用CDSEM测量和分析数据。
4.负责常规产品相关工艺流程.技术标准和文件确认.设计与配布；
5.负责新产品工艺方案（流程.材料等）的定制开发及优化；
6.负责新产品工艺开发过程中异常解析及对策，品质提升与良率改善，最终导入量产；
7.组织推进重难点工艺技术课题研究和突破；
8. 协助上级做好客户技术.品质信息的沟通处理工作。
任职要求：
1.学历：本科及以上；
2.工作年限：3年及以上工作经验，有半导体行业光刻工作经验优先考虑；有光刻相关经验，例如版图设计、设计规则、电子束光刻、计算光刻、Scanner设备和应用、Track设备和应用、CDSEM测量、Overlay测量等经验的候选人优先考虑。
3.专业: 微电子.光电.物理；
4.外语/计算机：英语口语优秀者优先考虑；
5.其他要求：善于跟人沟通和协调工作进度, 具有良好的团队合作, 能够自我学习,自我激励, 按时完成工作安排。