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CMP无应力抛光工艺工程师
1.2-2.4万·15薪
人 · 本科 · 3-5年工作经验 · 性别不限2025/02/05发布
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公司信息
盛美半导体设备(上海)股份有限公司

已上市/1000-5000人

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职位描述
职责描述:
1.负责化学机械研磨和电化学无应力抛光工艺测试研发和创新;
Responsible for CMP and SFP test, research, development and innovation;
2.负责化学机械研磨与无应力抛光工艺集成的测试,研发和创新;
Responsible for CMP and SFP integrated process test, research, development and innovation;
3.负责机台日常维护测试,测试和可靠性测试;
Responsible for tool daily maintenance,test and reliability test;
4.负责工艺相关技术文献检索,分析和撰写;
Responsible for relevant technology document search, analysis and writing;
5.与机械,电气,软件工程师合作,负责机台设计,评估,测试,和改进;
Responsible for co-work with mechanical, electrical, software engineers to support tool design, evaluation, test, and improvement;
6.与客户合作,验收机台,工艺,及开发新工艺方案。
Cooperate with customer to qualify tool, process, and develop new process solution.

任职要求:
1. 3-5年铜互联或先进封装FAB、或设备商工作经验;
3~5years working experience in related field such as Cu interconnection process /equipment in FAB or in an advanced packaging factory or tool vendors;
2. 熟悉化学机械研磨CMP工艺和设备原理;
Familiar with CMP process and semiconductor tool working mechanism, or relevant electrochemical process;
3. 具有一定项目管理能力;
Good project management ability;
3. 硕士或本科,理工科相关专业;
Master or bachelor degree, major in science &technology or mechanical;
4. 擅长沟通并能适应一定程度加班。
Good at communication and for overtime work to complete tasks on time.

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