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光刻工艺工程师(J10024)
1.1-2万
人 · 本科 · 3-4年工作经验 · 性别不限2024/09/03发布
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飞渡路2020号

公司信息
上海新微半导体有限公司

国企/150-500人

该公司所有职位
职位描述
工作职责:
1. 黄光制程日常维护,Ocap / Hold lot处理及Throughput提升
2. 管控工艺相关的SPC、FDC、EFMEA,降低返工率、报废率,改善及增进光刻工艺的生产效率;
减少工艺缺陷,改进工艺条件,提升良率;
3. 负责Nikon& ASML stepper,Tel &沈阳芯源涂胶显影设备,Hitachi CDSEM,KT overlay,SUSS/DNK
Aligner等设备的菜单编辑,工艺稳定和优化
4. 在线异常的及时处理,并撰写异常处理报告
5. 工艺QC优化、新材料和新工艺的引进工作,提高工艺水平
6. 操作和工艺文件(SOP)编写,监督和指导OP按照文件正确地操作工艺设备
7. 配合设备工程师,完成新机台的评估,验收及PM后的机台复机事宜
8. 配合研发部门,完成新工艺的开发与评估,各专案项目的落实与跟进
任职资格:
1. 大学本科及以上学历,物理/化学/材料等理工科相关专业,英语4级以上;
2. 有3年左右光刻制程经验,有三五族光刻制程经验尤佳,熟悉Nikon &ASML stepper,Tel &沈阳芯源涂胶显影设备,Hitachi CDSEM,KT overlay,SUSS/DNK Aligner等一种或几种设备的机台原理,机台的操作,菜单编辑及优化工作;
3. 熟悉本区域工艺的影响因素,对光刻inline和offline SPC管控和提升有一定经验;
4. 熟悉光刻及涂胶显影过程中的异常分析,对光刻defect原因追查与改进措施实施有一定经验;
5. 熟悉EAP,FDC、EFMEA等工具的使用;
6. 了解HSF管理过程,知晓本公司与HSF过程有关的HS;
7. 工作积极主动认真、好学、责任心强,对自身职业规划有清晰方向,抗压力强;
8. 善于发现、分析和解决问题,动手能力强,沟通能力强,具有良好的团队协作精神。

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