岗位需求
硕士以上学历，光学、物理学、微电子学、计算机等相关专业
1、熟悉130～180nm技术节点光学邻近效应原理与相关解决方案及其对应的光刻技术，如RB OPC、MB OPC等
2、熟悉OPC技术流程与规则，包括光刻机OPC数据收集、整理与分析流程；能独立根据平台光刻机相关数据建立OPC模型及验收，并进行RET模拟；
3、掌握主流EDA软件的使用，如Synopsys 、Mentor、Cadence、华大九天等，尤其OPC工具的使用；熟悉版图设计和Tapeout流程；熟悉Linux操作系统及Python软件编程；
4、熟悉半导体KrF或ArF步进式或扫描步进式光刻机工作原理，熟悉相关光刻工艺及相关量测设备。
5、熟悉对180nm及以下CMOS工艺流程及相关工艺模块优先；
6、良好的沟通协作能力，独立工作、分析与解决问题能力，英文读写说能力

岗位职责
1、负责平台KrF步进式光刻机OPC数据收集、整理与分析，建立平台OPC模型及验证，OPC相关RET 光刻模拟；
2、平台科研流片版图的OPC验证与优化；
3、与平台工艺部门合作，了解工艺需求，提出并完成平台科研项目版图的OPC解决方案；
4、领导交办的其他任务。