"岗位职责:基于同步辐射EUV干涉光刻及电子束光刻技术,制备多种DRAM的典型图案(不同的pitch 尺寸, 不同的透光率等),在不同的薄膜构造验证EUV 光刻胶的稳定性及工艺窗口,开展器件光刻工艺研究。""任职要求:博士学历,物理或光学专业,有电子束光刻经验者优先;身体健康。"