职责描述：
1. 负责先进逻辑节点OPC开发；
2. 从事SMO优化仿真，OPC model calibration，recipe开发，以及mask设计和 整合，tapeout等；
3. 与Litho，Etch，Mask，PIE，DR等相关部门紧密合作，了解工艺需求，给出OPC解决方案；
4. 进行计算光刻先进方法的研究和开发以及EDA tool 的验证等。
岗位要求:
1. 本科及以上学历，光学、电子/电气工程、半导体物理专业更佳；
2. 光刻或OPC开发背景， 具有较强的光刻理论基础，熟悉脚本语言或C-API；
3. 掌握 patterning 工艺和设计规则，具有先进节点Litho或OPC经验优先；
4. 良好的沟通能力，以及项目执行能力。