职责描述：
1. 负责先进逻辑制程的光刻工艺开发；
2. Litho Patterning 开发，光源、光刻材料、Mask的评估， 光刻工艺优化等；
3. Litho Mark的设计和整合，Overlay 量测方法的评估和优化；
4. 发现和解决光刻相关的缺陷，维护研发产品的运行；
5. 下一节点的 Patterning pathfinding, 光刻工艺预研等。

岗位要求：
1. 本科及以上学历，光学、电子/电气工程、半导体物理专业更佳；
2. 具有光刻相关的背景；
3. 具有先进逻辑节点光刻工艺开发经验优先；
4. 良好的沟通能力，以及项目执行能力。