岗位职责：
1、 负责黄光工艺（Photolithography）中AG（Anti-Glare/抗反射）Mask的版图设计
2、应用OPC（光学邻近校正）技术修正掩模图形，解决光刻过程中的衍射效应问题。
3、通过仿真软件（如Synopsys PROLITH、ASML Brion）模拟光刻成像效果，优化掩模设计以提升良率
4、与光刻工艺工程师、器件工程师紧密合作，分析生产中的掩模相关问题（如CD均匀性、缺陷等），提出改进方案。
5、参与新工艺开发，为黄光工艺提供掩模设计的技术支持。
任职要求：
学历：微电子、光学工程、材料科学等相关专业本科及以上；
技能：精通Mask设计工具，熟悉光刻工艺及OPC技术；