岗位职责:1、 负责MEMS 光刻工艺及匀胶显影工艺段湿法工艺管理2、负责维护光刻工艺稳定、光刻机设备的稳定,制定并执行FMEA要求3、解决光刻工艺的CD异常处理,光刻胶的profile优化,根据异常结果调整光刻工艺参数,了解常用的光刻胶型号,根据不同产品要求选择不同型号的光刻胶。4、 负责部分新工艺的开发和导入工作, 负责对产线人员的操作培训及作业指导5、 完成上级安排的其他任务任职要求:1、本科及以上学历,材料、物理、化学、机械等理工科专业均可2、具有2年以上光刻 (激光直写光刻机机型) 经验者佳,熟练光刻机台工艺步骤,有独立项目导入经验3、具有团队协作意识,服从领导,有良好的沟通、学习能力,抗压能力强,吃苦耐劳