岗位职责：
总体负责MEMS Fab的光刻工艺：
1、总负责光刻工艺（尼康i-line stepper，Mask Aligner和Laser Direct Writing），包括总负责涂胶显影；
2、根据工艺要求选择合适的光刻胶，并实现涂胶、光刻、显影等系列工艺的开发验证和量产导入；
3、接洽版图设计，review确认PCM和对位标记图形,制定相关design rule；
4、协助负责review产品设计版图，确保符合design rule；
5、建立光刻工艺的Process Control；
6、配合其它工艺module的工艺开发工作；
7、培训新工程师；

任职要求：
1、理工科本科以上学历：化学、材料、物理、电子等理工科相关专业；
2、5年以上Fab光刻工艺经验，候选人必须当前仍在Fab一线负责产线光刻工艺开发和工艺优化工作，机台实操经验丰富，必须非常熟悉尼康i-line光刻机（i12）；
3、同时有其它Fab工艺经验者优先；
4、对半导体晶圆厂工艺有丰富的基础知识储备，具备一定全流程工艺整合能力者优先；

其他能力及技能要求：
1、必须能独立工作，自我驱动，能高效独立完成工作；
2、非常熟悉尼康i-line光刻机和相关工艺，熟悉版图上对位标记和PCM图形的设计要求；
3、能使用基本的版图工具(如L-EDIT, KLayout，AutoCAD等)浏览设计版图，能做简单的版图修改者优先；
4、具备良好的英语读写能力，具备基本英语口语交流能力；